Dynamische on-line-Prozesskontrolle von Photoresisten waehrend des Belichtungsvorganges und deren Charakterisierung
Projektleitung und Mitarbeiter
Gauglitz, G. (Prof. Dr.), Krause-Bonte, J. (Dr. rer. nat.), Nagel,
J. (Dipl. Chem.)
Forschungsbericht :
1990-1992
Tel./ Fax.:
Projektbeschreibung
Durch den Aufbau einer Transmissions- und
Reflexions-Messanordnung soll ueber Lichtleiter ermoeglicht werden,
das spektrale Verhalten von Photoresisten auf Leiterplatten zu
charakterisieren und deren Aenderung in Abhaengigkeit von der
Bestrahlungszeit zu messen. Eine moderne Mikroprozessoreinheit als
Steuerungs- und Datenerfassungssystem garantiert eine hohe
Spektrenaufnahmerate und ermoeglicht zeitaufgeloeste Messungen auch in
Abhaengigkeit vom Messort.
Mittelgeber
Drittmittelfinanzierung: AIF (Dechema)
Publikationen
Krause-Bonte, J., Gauglitz, G.: Spektrale Charakterisierung von
Photoresisten zur Prozesskontrolle. - Pronic 5, 26 (1989).
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- Stand: 15.09.96
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